鑫台铭静电吸盘｜静电卡盘制备——真空伺服热压机：---鑫台铭提供。鑫台铭---新智造走向世界！致力于3C电子、新能源、新材料产品成型及生产工艺解决方案。

静电吸盘(简称ESC，E-chuck（Electrostatic Chuck）)是一种适用于真空环境或等离子体环境的超洁净晶圆片承载体，利用静电吸附原理实现超薄晶圆片的平整均匀夹持，此外亦发挥散热作用，运用静电吸盘的导热系统和通氦气的方式导出晶圆加工过程中产生的热量。静电吸盘广泛应用于刻蚀、薄膜沉积、离子注入等高端半导体制造装备，其使用寿命一般不超过两年，属于消耗品，替换量大。

静电吸盘的基本原理是利用异种电荷相互吸引的作用力实现对晶圆片的吸附，其主体结构为三明治结构，分为介电层（电介质层）、电极层和基底层。静电吸盘的制备难点在于对原料性能要求高、后工序处理难度大、产品精度以及微观误差接受率较低、生产环境清洁要求苛刻。高端静电吸盘制备的关键在于对介电层、电极层的制备及功能层之间的连接工艺。

鑫台铭专注于精密压装技术，致力于半导体静电卡盘真空热压贴合、流延生瓷片叠压、以及陶瓷机构件精密伺服粉末成型设备解决方案，获得实用新型、发明专利以及软著等近百项，实现国产替代进口设备水平，设备主要应用于静电卡盘、陶瓷粉末、生瓷片、加热盘、劈刀等配件加工，与国内多家客户长期合作。

半导体静电卡盘真空热压机是一种结合静电吸附、高温加压与真空环境的先进制造工艺，广泛应用于半导体封装等领域。

真空伺服热压机：

1.伺服电缸和伺服电机，高精度定位，运动平稳，具有受力均匀可靠的优点。

2.可实时精确控制滑块位置、速度和压力，位置重复精度可达±0.01mm。

3.控制系统元件精度高、可靠性好，抗干扰能力强、伺服系统响应速度快。

4.温度控制：采用PID算法，加热板温差±3℃，避免材料过热或固化不均。

5.含抽真空功能，真空度达到100Pa。

真空伺服热压机：

1.柱塞缸和伺服电机，高精度定位，运动平稳，具有受力均匀可靠的优点。

2.可实时精确控制滑块位置、速度和压力，位置重复精度可达±0.15mm。

3.控制系统元件精度高、可靠性好，抗干扰能力强、伺服系统响应速度快。

4.温度控制：采用PID算法，加热板温差±3℃，避免材料过热或固化不均。

5.含抽真空功能，真空度达到100Pa。

设备特点：

1、设备：伺服压力机、热压成型机、真空热压机等。

2、压力：1T-500T，台面:350*350或530*530，开口和行程可以按照产品要求定制。

3、驱动：采用伺服电缸或者柱塞缸，高精度定位，运动平稳，具有受力均匀、可靠等优点。

4、高精度与可控性：可实时精确控制滑块位置、速度和压力，位置重复精度可达±0.01mm。

5、控制系统先进：控制系统元件精度高、可靠性好，抗干扰能力强、伺服系统响应速度快。

6、温度控制：采用PID算法，加热板温差+3℃，避免材料过热或固化不均。

7、PLC控制：可编程，对行程、压力、温度、真空度、分段时间的参数设置。

8、应用：工艺适应性广，可配抽真空、机械手、半自动进出料、定位等装置。

应用场景：

静电卡盘、陶瓷粉末、生瓷片、加热盘等半导体配件。

我国该领域内，先进制程用静电吸盘量产能力不足、仍主要处于研发或客户评价的阶段，静电吸盘整体国产化率不足10%，仅华卓精科、珂玛科技、君原电子等极少数企业实现了静电吸盘的小批量生产销售。全球静电吸盘市场呈现寡头垄断的竞争格局，形成该格局的重要原因之一系美国、日本在半导体设备市场的较高占有率，协同带动了其本土厂商的静电吸盘的垄断局面。